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發射光譜分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）
      所謂發射光譜分析是指使用放電等離子體蒸發氣化來激發樣品中的目標元素，根據得到的元素固有的亮線光譜（原子光譜）的波長進行定性，并根據發光強度進行定量的分析方法。
      廣義上講，激發放電（光源）還包括使用ICP（Inductively coupled plasma 電感耦合等離子體）作為激發放電（光源）的ICP發射光譜分析。但發射光譜分析（發光分析）或光電測光式發射光譜分析，是指使用火花放電/直流電弧放電/輝光放電作為激發放電的發射光譜分析。發射光譜分析中，在固體金屬樣品和與電極之間發生放電。
      島津的發射光譜分析裝置是在氬氣氛圍中進行火花放電，對火花脈沖的發光進行統計處理，采用可提高測定重現性（精度）的方式（PDA測光方式：Pulse Distribution Analysis）。
      發射光譜分析裝置可快速測定固體金屬樣品的元素組成，是在煉鐵、鋁冶煉工藝管理用中必不可少的手段。